Электроника

ОЧИСТКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ГАЗОВ, удаление из технологич. газов посторонних твердых, жидких и газообразных примесей или уменьшение их количества до предельно допустимого уровня Для мн. технологич процессов в произ-вв электронных приборов и др. ИЭТ требуется газообразная технологич. среда особой чистоты Однако большинство газов, получаемых пром. способом, не удовлетворяют требованиям технологии электронных приборов и нуждаются в дополнит, очистке от примесей Оз, КЬО, Na н СО
Длв О. т. г. применяют разл. способы в зависимости от св-в газа, его жим. состава и требуемой степени чистоты Напр., дпя очистки газов, в т ч воздуха, от аэрозолей (что необходимо при литографии, сборке ИС и ПП приборов) применяют фильтры (рис. I) из малопористого материала, к-рый в процессе фильтрации не разрушается с выделением пыпи (таким материалом может быть стеклоткань, вата из полимерных волокон) С помощью таких фильтров у деется снизить содержание аэрозолей (с размерами ч-ц 0,5 мкм и менее) до 2 ч-ц е 1 дм
Очистка от газообразных примесей (напр., очистка водорода, азота или аргона от кислорода и водяных паров) осуществляется пропусканием очищаемого газа через фильтр в виде патрона (рис 2), заполненного алюмо гелем, силикагелем, цеолитом или др. материалом (чаще всего в виде гранул) Сверхтонкая очистка обеспечивает ся диффузионным методом, газ пропускают через мембрану, задерживающую примеси (рис 3). Напр., для очистки водорода используют палладиввую мембрану, нагретую  ДО  ТвмП-рЫ  Св    500    С